R&D


洗淨研發

● 支援最佳清洗條件使客戶的製程更加順暢

    ‧  減少缺陷
    ‧  減短交貨時間

● 新的洗淨研發用以支援新的材料洗淨

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  表面形貌( 雷射顯微鏡 )

  耐化學性

‧  厚度削減
‧  孔洞尺寸差異(AOI)

汙染物去除率

(X-Ray, EDX, ICP-MS)


大氣電漿熔射塗層研發

● 支援最佳熔射材料使客戶的製程更加順暢

    ‧ 增加定期保養週期與使用壽命
    ‧ 降低微粒產生
    ‧ 降低成本

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成膜率&膜厚
表面粗糙度
孔隙率
硬度
附著力
崩潰電壓
成分分析
材料結構
表面影像
耐化學性
耐電漿能力
清洗測試


新的材料與產品研發

● 用於高階設計規格的新製程與新材料研發

    ‧ SHD Y2O3 (優於 OEM AD)
    ‧ IP Y2O3 and YOF
    ‧ CVD Y2O3
    ‧ Y2O3 陶瓷
    ‧ YOF 陶瓷

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